一、產品概述

REFINE TEC雙自動拋光機APW-128K 200HV由日本技術團隊研發，專為高精度表面處理需求設計，廣泛應用于醫療、食品、生物制藥、冶金等領域。該設備通過全自動化操作和智能程序控制，顯著提升研磨效率與一致性，成為工業精密加工領域的優選設備。

二、核心技術優勢

1. 雙模式負載設計

個別負載：支持Φ25.4mm、Φ31.7mm、Φ38.1mm等多種樣品尺寸，適配不同實驗需求，單次zui多可處理4個獨立樣品。

整體負載：適用于批量處理，zui大負載達200N，搭配虛擬樣品填充功能，確保研磨穩定性。

2.智能化操作系統

配備觸摸屏界面，用戶可輕松設定10種工藝程序(每個程序包含20個步驟)，支持壓力、轉速、時間等參數的動態切換。

具備條件自動切換功能，例如在設定壓力或轉速達到閾值后自動調整參數，優化研磨效果。

3. an全與便捷性

軟啟動功能避免瞬間壓力沖擊，延長設備壽命;

蜂鳴器提醒拋光完成，支持操作設置鎖定，防止誤觸;

兼容磨料自動供應裝置(需選配)，進一步提升自動化水平。

三、廣泛適用領域

APW-128K 200HV憑借其高精度和靈活性，可滿足以下場景需求：

醫療與生物產業：手術器械、植入物表面拋光;

食品工業：加工設備部件的光潔度處理;

材料科學：金屬、陶瓷等材料的精細研磨與金相分析;

電子制造：半導體元件或精密零件的表面處理。

四、性能參數一覽

| 參數項 | 規格詳情 |

| 電源輸入 | AC100V單相或AC200V三相 |

| 圓盤轉速 | 60-580 RPM(可調) |

| 負載范圍 | 個別5-30N / 整體30-200N |

| 樣品架容量 | zui大支持6孔(Φ25.4mm) |

| an全防護 | 緊急停止開關 + an全罩限位裝置 |

五、為何選擇APW-128K 200HV?

1. 技術領xian：日本原廠工藝，結合動態分離與精密控制技術，確保納米級研磨精度。

2. 高效節能：相比傳統手動拋光，效率提升50%以上，同時通過程序優化減少能耗。

3. 售后保障：由巖瀨商事(深圳)有限公司提供技術支持，覆蓋設備安裝、培訓與維護全周期。